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文献
J-GLOBAL ID:200902088226609071   整理番号:86A0460454

N型〈100〉シリコンウエハ上の表面スタッキング欠陥の低減

Reduction of surface stacking faults on N-type 〈100〉 silicon wafers.
著者 (3件):
KOOB P W
(Monsanto Electronic Materials Co., Missouri)
FRAUNDORF G K
(Monsanto Electronic Materials Co., Missouri)
CRAVEN R A
(Monsanto Electronic Materials Co., Missouri)

資料名:
Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)

巻: 133  号:ページ: 806-810  発行年: 1986年04月 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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