文献
J-GLOBAL ID:200902088424254629
整理番号:91A0003158
アルカリ性溶液中における結晶性シリコンの異方性エッチング I 配向依存と不動態層の挙動
Anisotropic etching of crystalline silicon in alkaline solutions. I. Orientation dependence and behavior of passivation layers.
著者 (4件):
SEIDEL H
(Messerschmitt-Boelkow-Blohm GmbH, Munich, DEU)
,
CSEPREGI L
(Fraunhofer-Inst. Feskoerpertechnologie, Munich, DEU)
,
HEUBERGER A
(Fraunhofer-Inst. Mikrostrukturtechnik, Berlin, DEU)
,
BAUMGAERTEL H
(Freie Univ. Berlin, Berlin, DEU)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
137
号:
11
ページ:
3612-3626
発行年:
1990年11月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)