文献
J-GLOBAL ID:200902088472639583
整理番号:87A0055711
大規模集積回路技術におけるシリサイドとポリサイドのプラズマエッチング
Plasma etching of silicides and polycides in very-large-scale integration technology.
著者 (2件):
PECCOUD L
(Centre d’Etudes Nucl<span style=text-decoration:overline>e ́</span>aires de Grenoble, Grenoble, FRA)
,
LAPORTE PH
(Centre d’Etudes Nucl<span style=text-decoration:overline>e ́</span>aires de Grenoble, Grenoble, FRA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
140
号:
1
ページ:
137-147
発行年:
1986年06月16日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)