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文献
J-GLOBAL ID：200902089152053374
整理番号：89A0599110
H2選択透過性SiO2膜の蒸着
Deposition of H2-permselective SiO2 films.
GAVALAS G R
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
MEGIRIS C E
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
NAM S W
(California Inst. Technology, CA, USA)
資料名：
Chemical Engineering Science
(Chemical Engineering Science)
巻： 44 号： 9 ページ： 1829-1835 発行年： 1989年
JST資料番号： B0254A ISSN： 0009-2509 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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