文献
J-GLOBAL ID:200902089266220246
整理番号:91A0854478
ジルコニウムチタン酸鉛ランタン薄膜をプラズマエッチングしたときのエッチング速度と膜の学量論比の変化
Measurements of etch rate and film stoichiometry variations during plasma etching of lead-lanthanum-zirconium-titanate thin films.
著者 (2件):
POOR M R
(Univ. New Mexico, New Mexico)
,
FLEDDERMANN C B
(Univ. New Mexico, New Mexico)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
70
号:
6
ページ:
3385-3387
発行年:
1991年09月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)