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文献
J-GLOBAL ID：200902089720988502
整理番号：92A0059359
原子間力顕微鏡(AFM)を用いた重合体付着のサブミクロン領域の測定 トポグラフィーと材料の不均一性への依存性
Submicron probe of polymer adhesion with atomic force microscopy: Dependence on topography and material inhomogeneities.
MIZES H A
(Xerox Webster Research Center, New York)
,
LOH K-G
(Univ. Rochester, New York)
,
MILLER R J D
(Univ. Rochester, New York)
,
AHUJA S K
(Xerox Corp., New York)
,
GRABOWSKI E F
(Xerox Corp., New York)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 59 号： 22 ページ： 2901-2903 発行年： 1991年11月25日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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