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文献
J-GLOBAL ID：200902091205851876
整理番号：88A0208294
マグネトロンスパッタリングにより比較的高速,低温で形成したTiNコーティング膜の構造
Structure of TiN coatings deposited at relatively high rates and low temperatures by magnetron sputtering.
VALVODA V
(Charles Univ., Prague, CSK)
,
KUZEL R JR
(Charles Univ., Prague, CSK)
,
CERN<span style=text-decoration:overline>Y ́</span> R
(Charles Univ., Prague, CSK)
,
MUSIL J
(Inst. Physics, Czechoslovak Academy of Sciences, Prague, CSK)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 156 号： 1 ページ： 53-63 発行年： 1988年01月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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