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文献
J-GLOBAL ID：200902091601898613
整理番号：93A0190304
Electron-beam cell-projection lithography system.
SAKITANI Y
(Hitachi Ltd., Ibaraki, JPN)
,
YODA H
(Hitachi Ltd., Ibaraki, JPN)
,
TODOKORO H
(Hitachi Ltd., Ibaraki, JPN)
,
SHIBATA Y
(Hitachi Ltd., Ibaraki, JPN)
,
YAMAZAKI T
(Hitachi Ltd., Ibaraki, JPN)
,
OHBITU K
(Hitachi Ltd., Ibaraki, JPN)
,
SAITOU N
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
MATUOKA G
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
OKUMURA M
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 10 号： 6 ページ： 2759-2763 発行年： 1992年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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