文献
J-GLOBAL ID:200902092007395810
整理番号:88A0165147
プラズマエッチング中における電荷蓄積による酸化物の絶縁破壊
Oxide breakdown due to charge accumulation during plasma etching.
著者 (4件):
RYD<span style=text-decoration:overline>E ́</span>N K-H
(Inst. Microwave Technology, Stockholm, SWE)
,
NORSTROEM H
(Inst. Microwave Technology, Stockholm, SWE)
,
NENDER C
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
BERG S
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
134
号:
12
ページ:
3113-3118
発行年:
1987年12月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)