文献
J-GLOBAL ID:200902092667908500
整理番号:87A0208942
サファイア上のけい素におけるキャリア寿命とイオン注入線量の関係
Carrier lifetime versus ion-implantation dose in silicon on sapphire.
著者 (3件):
DOANY F E
(IMB T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
GRISCHKOWSKY D
(IMB T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
CHI C-C
(IMB T.J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
50
号:
8
ページ:
460-462
発行年:
1987年02月23日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)