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文献
J-GLOBAL ID：200902093262803279
整理番号：90A0548793
空気中で操作した走査トンネル顕微鏡による水素でパシベートしたシリコンの改質
Modification of hydrogen-passivated silicon by a scanning tunneling microscope operating in air.
DAGATA J A
(National Inst. Standards and Technology, Maryland)
,
SCHNEIR J
(National Inst. Standards and Technology, Maryland)
,
HARARY H H
(National Inst. Standards and Technology, Maryland)
,
EVANS C J
(National Inst. Standards and Technology, Maryland)
,
POSTEK M T
(National Inst. Standards and Technology, Maryland)
,
BENNETT J
(National Inst. Standards and Technology, Maryland)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 56 号： 20 ページ： 2001-2003 発行年： 1990年05月14日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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