文献
J-GLOBAL ID:200902093628762058
整理番号:86A0305788
膜パターンをもつ半導体基板中の応力分布の解析
Analysis of stress distribution in semiconductor substrates with film patterns.
著者 (2件):
FISCHER A
(Inst. Halbleiterphysik Akademie der Wissenschaften der DDR)
,
BLOCH G
(Inst. Halbleiterphysik Akademie der Wissenschaften der DDR)
資料名:
Crystal Research and Technology
(Crystal Research and Technology)
巻:
21
号:
2
ページ:
279-285
発行年:
1986年02月
JST資料番号:
B0738A
ISSN:
0232-1300
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)