文献
J-GLOBAL ID:200902093667846595
整理番号:92A0089667
電着作成したナノ構造Ni-Cu多重層材料の引張り特性
Tensile Properties of Nanostructured Ni-Cu Multilayered Materials Prepared by Electrodeposition.
著者 (2件):
TENCH D M
(Rockwell International Science Center, California)
,
WHITE J T
(Rockwell International Science Center, California)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
138
号:
12
ページ:
3757-3758
発行年:
1991年12月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)