文献
J-GLOBAL ID:200902094285615069
整理番号:92A0225418
固体鉄源を用いた急速熱処理化学蒸着によるシリコン上のβ-FeSi2の選択エピタキシャル蒸着
Selective and epitaxial deposition of β-FeSi2 on silicon by rapid thermal processing-chemical vapor deposition using a solid iron source.
著者 (4件):
REGOLINI J L
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, Meylan, FRA)
,
TRINCAT F
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, Meylan, FRA)
,
BERBEZIER I
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, Meylan, FRA)
,
SHAPIRA Y
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, Meylan, FRA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
60
号:
8
ページ:
956-958
発行年:
1992年02月24日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)