文献
J-GLOBAL ID:200902095656829799
整理番号:89A0392488
レジストの除去および多層レジストリソグラフィーのための酸素プラズマエッチング
Oxygen plasma etching for resist stripping and multilayer lithography.
著者 (3件):
HARTNEY M A
(Univ. California, CA, USA)
,
HESS D W
(Univ. California, CA, USA)
,
SOANE D S
(Univ. California, CA, USA)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
7
号:
1
ページ:
1-13
発行年:
1989年01月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)