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文献
J-GLOBAL ID：200902098087942270
整理番号：86A0336658
Si〈111〉面につけたけい化コバルトの固相および分子ビームエピタキシャル膜の電子エネルギー損失分光による研究
Study of solid phase and molecular beam epitaxial cobalt silicide films on Si〈111〉 using electron energy loss spectroscopy.
DE FRESART E
(Univ. California Los Angeles)
,
KAO Y C
(Univ. California Los Angeles)
,
WANG K L
(Univ. California Los Angeles)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 4 号： 2 ページ： 645-648 発行年： 1986年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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