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文献
J-GLOBAL ID：200902098177011632
整理番号：92A0168790
進んだ電子ビームリソグラフィー
Advanced e-beam lithography.
TAKIGAWA T
(Toshiba Corp., Kawasaki-City, JPN)
,
WADA H
(Toshiba Corp., Kawasaki-City, JPN)
,
OGAWA Y
(Toshiba Corp., Kawasaki-City, JPN)
,
YOSHIKAWA R
(Toshiba Corp., Kawasaki-City, JPN)
,
MORI I
(Toshiba Corp., Kawasaki-City, JPN)
,
ABE T
(Toshiba Corp., Kawasaki-City, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 9 号： 6 ページ： 2981-2985 発行年： 1991年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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