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文献
J-GLOBAL ID：200902099100267843
整理番号：89A0087230
スパッタ型ECRマイクロ波プラズマの特徴と薄膜形成への応用
Characteristics for sputtering type electron cyclotron resonance microwave plasma and its applications to thin film preparations.
松岡茂登
(NTT 光エレクトロニクス研)
,
小野堅一
(NTT 光エレクトロニクス研)
資料名：
応用物理
(JSAP International)
巻： 57 号： 9 ページ： 1301-1313 発行年： 1988年09月
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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