文献
J-GLOBAL ID:200902100005649400
整理番号:93A0528869
SiO2プラズマ析出の化学
Chemistry of SiO2 Plasma Deposition.
著者 (2件):
SMITH D L
(Xerox Palo Alto Research Center, California)
,
ALIMONDA A S
(Xerox Palo Alto Research Center, California)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
140
号:
5
ページ:
1496-1503
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)