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文献
J-GLOBAL ID：200902100012917950
整理番号：99A0245540
サブ-100nm形状を転写する近視野フォトリソグラフィー
Printing Sub-100 Nanometer Features Near-field Photolithography.
TANAKA S
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
NAKAO M
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
HATAMURA Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KOMURO M
(Electrotechnical Lab., Ministry of International Trade and Ind., Ibaraki, JPN)
,
HIROSHIMA H
(Electrotechnical Lab., Ministry of International Trade and Ind., Ibaraki, JPN)
,
HATAKEYAMA M
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 12B ページ： 6739-6744 発行年： 1998年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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