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文献
J-GLOBAL ID：200902100158899740
整理番号：94A0139435
Ellipsometric monitoring and control of the rapid thermal oxidation of silicon.
CONRAD K A
(Univ. North Carolina, North Carolina)
,
SAMPSON R K
(Duke Univ. North Carolina)
,
MASSOUD H Z
(Duke Univ. North Carolina)
,
IRENE E A
(Univ. North Carolina, North Carolina)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 11 号： 6 ページ： 2096-2101 発行年： 1993年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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