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文献
J-GLOBAL ID：200902100383930096
整理番号：94A0594863
自己集合単分子層のパターン化 材料科学への応用
Patterning Self-Assembled Monolayers: Applications in Materials Science.
KUMAR A
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
BIEBUYCK H A
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
WHITESIDES G M
(Harvard Univ., Massachusetts)
資料名：
Langmuir
(Langmuir)
巻： 10 号： 5 ページ： 1498-1511 発行年： 1994年05月
JST資料番号： A0231B ISSN： 0743-7463 CODEN： LANGD5 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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