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文献
J-GLOBAL ID：200902100516479970
整理番号：99A0042857
ポリ(ノルボルネン-alt-マレイン酸無水物)誘導体に基づく193nmの単層レジスト
193nm Single Layer Resist Based on Poly(norbornene-alt-maleic anhydride) Derivatives. The Interplay of the Chemical Structure of Components and Lithographic Properties.
HOULIHAN F M
(Bell Lab., NJ)
,
TIMKO A
(Bell Lab., NJ)
,
HUTTON R
(Bell Lab., NJ)
,
CIRELLI R
(Bell Lab., NJ)
,
KOMETANI J M
(Bell Lab., NJ)
,
REICHMANIS E
(Bell Lab., NJ)
,
NALAMASU O
(Bell Lab., NJ)
資料名：
ACS Symposium Series (American Chemical Society)
(ACS Symposium Series (American Chemical Society))
号： 706 ページ： 191-207 発行年： 1998年
JST資料番号： H0588B ISSN： 0097-6156 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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