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文献
J-GLOBAL ID：200902100748739900
整理番号：00A0122800
NTTにおけるX線マスクの進歩
Progress in x-ray mask technology at NTT.
ODA M
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
SHIMADA M
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
TSUCHIZAWA T
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
UCHIYAMA S
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
OKADA I
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
,
YOSHIHARA H
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 17 号： 6 ページ： 3402-3406 発行年： 1999年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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