文献
J-GLOBAL ID:200902100767435971
整理番号:98A0340780
MOCVD法で成長した高い側部密度を持つ自己組織化欠陥なしのInAs/GaAsとInAs/InGaAs/GaAs量子ドット
Self organized defect free InAs/GaAs and InAs/InGaAs/GaAs quantum dots with high lateral density grown by MOCVD.
著者 (5件):
HEINRICHSDORFF F
(Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU)
,
KROST A
(Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU)
,
BIMBERG D
(Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU)
,
KOSOGOV A O
(Max-Planck-Inst. Mikrostrukturphysik, Halle, DEU)
,
WERNER P
(Max-Planck-Inst. Mikrostrukturphysik, Halle, DEU)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
123/124
ページ:
725-728
発行年:
1998年01月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)