文献
J-GLOBAL ID:200902101516140626
整理番号:97A0963912
エチレンのエポキシ化に対するCu,AgとAu表面上のO2吸着 ディップアドクラスタ模型研究
Activation of O2 on Cu,Ag, and Au surfaces for the epoxidation of ethylene: dipped adcluster model study.
著者 (4件):
NAKATSUJI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
HU Z-M
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
NAKAI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
IKEDA K
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
387
号:
1/3
ページ:
328-341
発行年:
1997年10月08日
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)