文献
J-GLOBAL ID:200902101557893353
整理番号:01A0386880
線形走査およびパターン生成のための大偏向マイクロメカニカル反射鏡
Large deflection micromechanical scanning mirrors for linear scans and pattern generation.
著者 (7件):
SCHENK H
(Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU)
,
DUERR P
(Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU)
,
HAASE T
(Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU)
,
KUNZE D
(Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU)
,
SOBE U
(Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU)
,
LAKNER H
(Fraunhofer Inst. for Microelectronics Circuits and Systems, Dresden, DEU)
,
KUECK H
(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)
資料名:
IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics
(IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)
巻:
6
号:
5
ページ:
715-722
発行年:
2000年09月
JST資料番号:
W0734A
ISSN:
1077-260X
CODEN:
IJSQEN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)