文献
J-GLOBAL ID:200902101750405641
整理番号:95A0915184
励起ネオン原子とSiF4との相互作用のマトリックス分離研究 SiF3+及びSiF3-の赤外スペクトル
Matrix isolation study of the interaction of excited neon atoms with SiF<sub>4</sub>: Infrared spectra of SiF<span style=text-decoration:overline><sup>+</sup><sub>3</sub></span> and SiF<span style=text-decoration:overline><sup>-</sup><sub>3</sub></span>.
著者 (3件):
JACOX M E
(National Inst. Standards and Technol., Maryland)
,
IRIKURA K K
(National Inst. Standards and Technol., Maryland)
,
THOMPSON W E
(National Inst. Standards and Technol., Maryland)
資料名:
Journal of Chemical Physics
(Journal of Chemical Physics)
巻:
103
号:
13
ページ:
5308-5314
発行年:
1995年10月01日
JST資料番号:
C0275A
ISSN:
0021-9606
CODEN:
JCPSA6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)