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文献
J-GLOBAL ID:200902101750405641   整理番号:95A0915184

励起ネオン原子とSiF4との相互作用のマトリックス分離研究 SiF3+及びSiF3-の赤外スペクトル

Matrix isolation study of the interaction of excited neon atoms with SiF<sub>4</sub>: Infrared spectra of SiF<span style=text-decoration:overline><sup>+</sup><sub>3</sub></span> and SiF<span style=text-decoration:overline><sup>-</sup><sub>3</sub></span>.
著者 (3件):
JACOX M E
(National Inst. Standards and Technol., Maryland)
IRIKURA K K
(National Inst. Standards and Technol., Maryland)
THOMPSON W E
(National Inst. Standards and Technol., Maryland)

資料名:
Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)

巻: 103  号: 13  ページ: 5308-5314  発行年: 1995年10月01日 
JST資料番号: C0275A  ISSN: 0021-9606  CODEN: JCPSA6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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