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文献
J-GLOBAL ID：200902101759236770
整理番号：98A0932018
マグネトロンスパッタリングによる非晶質窒化炭素の作製に及ぼす酸素ガス添加と基板冷却の効果
Effects of Oxygen Gas Addition and Substrate Cooling on Preparation of Amorphous Carbon Nitride Films by Magnetron Sputtering.
YOKOMICHI H
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
SAKIMA H
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
MASUDA A
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 9A ページ： 4722-4725 発行年： 1998年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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