文献
J-GLOBAL ID:200902101779945661
整理番号:96A0677235
電着法で作製したCo/Cu多層膜の磁気抵抗効果
Magnetoresistance effect of Co/Cu multilayer film produced by electrodeposition method.
著者 (3件):
UEDA Y
(Muroran Inst. Technol., Muroran, JPN)
,
HATAYA N
(Muroran Inst. Technol., Muroran, JPN)
,
ZAMAN H
(Muroran Inst. Technol., Muroran, JPN)
資料名:
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
(Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻:
156
号:
1/3
ページ:
350-352
発行年:
1996年04月
JST資料番号:
H0644A
ISSN:
0304-8853
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)