文献
J-GLOBAL ID:200902102311457089
整理番号:02A0569589
イオン注入SiCのアニール処理に使用される黒鉛キャップとAlNキャップの比較
A Comparison of Graphite and AIN Caps Used for Annealing Ion-Implanted SiC.
著者 (9件):
JONES K A
(U.S. Army Res. Lab., MD)
,
DERENGE M A
(U.S. Army Res. Lab., MD)
,
SHAH P B
(U.S. Army Res. Lab., MD)
,
ZHELEVA T S
(U.S. Army Res. Lab., MD)
,
ERVIN M H
(U.S. Army Res. Lab., MD)
,
THOMAS C
(Howard Univ., Washington, D.C.)
,
SPENCER M G
(Howard Univ., Washington, D.C.)
,
HOLLAND O W
(Oak Ridge National Lab., TN)
,
VISPUTE R D
(Univ. Maryland, MD)
資料名:
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻:
31
号:
6
ページ:
568-575
発行年:
2002年06月
JST資料番号:
D0277B
ISSN:
0361-5235
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)