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文献
J-GLOBAL ID：200902102318418810
整理番号：00A0852855
イオンビーム支援蒸着により作製したSiOxFy薄膜の不均一な屈折率
Inhomogeneous refractive index of SiOxFy thin films prepared by ion beam assisted deposition.
LEE J H
(Inha Univ., Inchon, KOR)
,
HWANGBO C K
(Inha Univ., Inchon, KOR)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 128/129 ページ： 280-285 発行年： 2000年06月
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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