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J-GLOBAL ID：200902102443943268 整理番号：98A0245635

CVDにより作製した炭素質薄膜とその炭素/N形けい素(C/N-Si)光起電力電池への応用

A carbonaceous thin film made by CVD and its application for a carbon/n-type silicon(C/n-Si) photovoltaic cell.

著者 (5件)：

YU H A

(ERATO, Shizuoka, JPN)

KANEKO T

(Tokai Univ., Shizuoka, JPN)

OTANI S

(Tokai Univ., Shizuoka, JPN)

SASAKI Y

(Gunma Univ., Gunma, JPN)

YOSHIMURA S

(ERATO, Shizuoka, JPN)

資料名：

Carbon (Carbon)

巻： 36 号： 1/2 ページ： 137-143 発行年： 1998年
JST資料番号： H0270B ISSN： 0008-6223 CODEN： CRBNA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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