文献
J-GLOBAL ID:200902102638339063
整理番号:02A0270939
複合ステージを用いた移動マスク深部X線リソグラフィ(M2DXL)による三次元製造
3D Fabrication by Moving Mask Deep X-Ray Lithography (M2DXL) with Multiple Stages.
著者 (5件):
TABATA O
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
MATSUZUKA N
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
YAMAJI T
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
UEMURA S
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
YAMAMOTO K
(Minolta Co. Ltd)
資料名:
Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems
(Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻:
15th
ページ:
180-183
発行年:
2002年
JST資料番号:
W0377A
ISSN:
1084-6999
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)