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文献
J-GLOBAL ID:200902102638339063   整理番号:02A0270939

複合ステージを用いた移動マスク深部X線リソグラフィ(M2DXL)による三次元製造

3D Fabrication by Moving Mask Deep X-Ray Lithography (M2DXL) with Multiple Stages.
著者 (5件):
TABATA O
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
MATSUZUKA N
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
YAMAJI T
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
UEMURA S
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
YAMAMOTO K
(Minolta Co. Ltd)

資料名:
Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)

巻: 15th  ページ: 180-183  発行年: 2002年 
JST資料番号: W0377A  ISSN: 1084-6999  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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