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文献
J-GLOBAL ID：200902102721567213
整理番号：93A0830196
低温ホットウォールCVD法を用いた高性能a-Si/SiN TFTのバッチ処理
Batch processing of high-performance a-Si/SiN TFTs using a low-temperature hot-wall CVD method.
AHN B-C
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
,
KANOH H
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
,
SUGIURA O
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
,
MATSUMURA M
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of the Society for Information Display
(Journal of the Society for Information Display)
巻： 1 号： 2 ページ： 181-187 発行年： 1993年06月
JST資料番号： B0996B ISSN： 1071-0922 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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