文献
J-GLOBAL ID:200902103379545683
整理番号:01A0823446
プロセス室におけるガス濃度比の精密制御
Precise Control of Gas Concentration Ratio in Process Chamber.
著者 (4件):
NAGASE M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KITANO M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
SHIRAI Y
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OHMI T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
40
号:
8
ページ:
5168-5172
発行年:
2001年08月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)