文献
J-GLOBAL ID:200902103396560670
整理番号:96A0204611
周波数二倍増ダイオードレーザを使ったアルミニウムの堆積速度を制御するための394nmにおける原子吸収モニタ
Atomic absorption monitor for deposition process control of aluminum at 394 nm using frequency-doubled diode laser.
著者 (7件):
WANG W
(Stanford Univ., California)
,
FEJER M M
(Stanford Univ., California)
,
HAMMOND R H
(Stanford Univ., California)
,
BEASLEY M R
(Stanford Univ., California)
,
AHN C H
(Stanford Univ., California)
,
BORTZ M L
(Focused Res., Inc., California)
,
DAY T
(Focused Res., Inc., California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
68
号:
6
ページ:
729-731
発行年:
1996年02月05日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)