文献
J-GLOBAL ID:200902103491753019
整理番号:95A0361424
石英におけるシリコン自己拡散
Silicon Self-Diffusion in Quartz.
著者 (4件):
JAOUL O
(Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA)
,
BEJINA F
(Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA)
,
ELIE F
(Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA)
,
ABEL F
(Univ. Paris VII, Paris, FRA)
資料名:
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻:
74
号:
11
ページ:
2038-2041
発行年:
1995年03月13日
JST資料番号:
H0070A
ISSN:
0031-9007
CODEN:
PRLTAO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)