文献
J-GLOBAL ID:200902103632725499
整理番号:94A0082029
光化学的に除去されるシリル保護基
Photochemically-Removable Silyl Protecting Groups.
著者 (2件):
PIRRUNG M C
(Duke Univ., North Carolina)
,
LEE Y R
(Duke Univ., North Carolina)
資料名:
Journal of Organic Chemistry
(Journal of Organic Chemistry)
巻:
58
号:
25
ページ:
6961-6963
発行年:
1993年12月03日
JST資料番号:
C0328A
ISSN:
0022-3263
CODEN:
JOCEAH
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)