文献
J-GLOBAL ID:200902104419047521
整理番号:94A0369030
修飾バイアススパッタリングによる多結晶金属テープ上への面内組織化Y2O3ドープZrO2薄膜の作製
Preparation of in-plane textured Y2O3-doped ZrO2 thin film on polycrystalline metallic tape by modified bias sputtering.
著者 (4件):
AOKI S
(National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
FUKUTOMI M
(National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
KOMORI K
(National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
MAEDA H
(National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
12
号:
2
ページ:
501-505
発行年:
1994年03月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)