文献
J-GLOBAL ID:200902104515945727
整理番号:02A0962123
オフアクシオスターゲットスパッタリングにより堆積したTiO2膜の構造及び光学特性に及ぼすプラズマ曝露の効果
Effects of plasma exposure on structural and optical properties of TiO2 films deposited by off-axis target sputtering.
著者 (3件):
TAKAHASHI T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
NAKABAYASHI H
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
MIZUNO W
(Toyama Industrial Technol. Center, Takaoka, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
20
号:
6
ページ:
1916-1920
発行年:
2002年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)