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文献
J-GLOBAL ID：200902104640151970
整理番号：96A0511865
電子サイクロトロン共鳴マイクロ波プラズマを使用したスパッタ装置で作製したCo-Cr薄膜
Co-Cr films prepared by sputtering using electron cyclotron resonance microwave plasma.
YAMAMOTO S
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
SATO K
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
KURISU H
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
MATSUURA M
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 79 号： 8 Pt 2A ページ： 4896-4898 発行年： 1996年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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