文献
J-GLOBAL ID:200902104733239710
整理番号:96A0604088
パルスマグネトロンスパッタリングによって反応蒸着したAl2O3層の組織と性質に及ぼす基板温度の影響
Effect of the substrate temperature on the structure and properties of Al2O3 layers reactively deposited by pulsed magnetron sputtering.
著者 (4件):
ZYWITZKI O
(Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
,
HOETZSCH G
(Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
,
FIETZKE F
(Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
,
GOEDICKE K
(Fraunhofer-Inst. Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Dresden, DEU)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
82
号:
1/2
ページ:
169-175
発行年:
1996年07月
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)