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文献
J-GLOBAL ID：200902104832850219
整理番号：97A0934944
光化学反応による水溶液からの化合物半導体堆積の新しい技術
A New Technique of Compound Semiconductor Deposition from an Aqueous Solution by Photochemical Reactions.
GOTO F
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
ICHIMURA M
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
ARAI E
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 36 号： 9A/B ページ： L1146-L1149 発行年： 1997年09月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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