文献
J-GLOBAL ID:200902104944793978
整理番号:99A0297070
rfマグネトロンスパッタ蒸着窒化けい素膜によるシリコンの表面不動態化
Surface passivation of silicon by rf magnetron-sputtered silicon nitride films.
著者 (1件):
VETTER M
(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
337
号:
1/2
ページ:
118-122
発行年:
1999年01月11日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)