文献
J-GLOBAL ID:200902105563010744
整理番号:01A0497778
マスクリソグラフィーによるサブ波長構造の作製の数値的可能性の検討
Numerical feasibility study of the fabrication of subwavelength structure by mask lithography.
著者 (2件):
ICHIKAWA H
(Ehime Univ., Matsuyama, JPN)
,
KIKUTA H
(Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN)
資料名:
Journal of the Optical Society of America. A. Optics, Image Science, and Vision
(Journal of the Optical Society of America. A. Optics, Image Science, and Vision)
巻:
18
号:
5
ページ:
1093-1100
発行年:
2001年05月
JST資料番号:
C0327B
ISSN:
1084-7529
CODEN:
JOAOD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)