文献
J-GLOBAL ID:200902106172492163
整理番号:00A0086173
高ガス流量の半導体処理用の前段ポンプ及び粗引きポンプの改良
Innovation of the fore pump and roughing pump for high-gas-flow semiconductor processing.
著者 (2件):
AKUTSU I
(Diavac Ltd., Chiba, JPN)
,
OHMI T
(Diavac Ltd., Chiba, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
17
号:
6
ページ:
3505-3508
発行年:
1999年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)