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文献
J-GLOBAL ID：200902106870758396
整理番号：93A0352084
シリコンウェーハ表面上の微量元素の全反射蛍光X線分析における注意点
Reliable Data of Trace Impurity Contents on Si Wafers with Use of Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis.
薬師寺健次
(昭和電工シリコン)
,
大川真司
(昭和電工シリコン)
資料名：
X線分析の進歩
(X線工業分析)
巻： 24 ページ： 97-111 発行年： 1993年03月
JST資料番号： Z0547B ISSN： 0911-7806 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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