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文献
J-GLOBAL ID：200902106881201598
整理番号：97A0632263
193nmレジスト用脂環式メタクリレート重合体中の新しい保護基
New Protective Groups in Alicyclic Methacrylate Polymers for 193-nm Resists.
NOZAKI K
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
YANO E
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 10 号： 4 ページ： 545-550 発行年： 1997年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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