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文献
J-GLOBAL ID：200902107332749383
整理番号：01A0542587
有限差分時間領域法を使用した近接場フォトリソグラフィーのシミュレーション
Simulation of near-field photolithography using the finite-difference time-domain method.
TANAKA S
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
NAKAO M
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
UMEDA M
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
ITO K
,
NAKAMURA S
(Hitachi Ltd., Ibaragi, JPN)
,
HATAMURA Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 89 号： 7 ページ： 3547-3553 発行年： 2001年04月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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